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PECVD系統

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等離子輔助化學氣相沉積系統
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詳情介紹

產品特色

．大面積均勻性

．高鍍膜速率

．低溫真空鍍膜

．可通入多組氣體

．易操作及易維護

．可以客戶做修改

．可搭配制等離子光譜分析儀做制程等離子監控及控制


可應用范圍

．半導體產業

．太陽能產業

．LED產業

．光電產業

．鍍膜制程

．學術研究


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